Shu Uemura Silk Bloom Restorative maszk, 200 ml

Kezelés a károsodott haj erősítő felépítésére

27.090 Ft

(135.450 Ft / l, 27% ÁFÁ-val - Szállítási díjak)

Tartalom: 200 ml

Kiszállítás április 30., kedd-ig, amennyiben hétfő 00:00-ig rendel.

Még 3 darab raktáron

Ingyenes kiszállítás: Magyarország
Szállítás és kézbesítés - További információk

Tulajdonságok és előnyök

  • Intenzív ápolás
  • Szerkezetileg sérült hajra
  • Argánolajjal

Cikkszám: E1602901, Tartalom: 200 ml, EAN: 3474630146570

Gyakran együtt vásárolt a Shu Uemura Silk Bloom Restorative sampon termékkel

Shu Uemura Silk Bloom Restorative maszk - 200 ml Shu Uemura Silk Bloom Restorative sampon - 300 ml
Silk Bloom Restorative maszk - 200 ml 27.090 Ft (135.450 Ft / l)
Shu Uemura Silk Bloom Restorative sampon 17.390 Ft (57.967 Ft / l)
Teljes összeg: 44.480 Ft
Leírás

Az argánolajat tartalmazó speciális formula intenzív ápolással látja el a hajszálakat, felépítő hatásával segít helyreállítani a haj szerkezetét, valamint erős, selymes érzetet kölcsönöz a hajnak. Ideális igénybe vett és szerkezetileg sérült hajra, illetve normál fejbőrre.

Az argánfa csak természetes otthonában, Marokkóban nő. Mivel a régió viszonylag kopár és száraz, a fának sok évig kell nőnie, mielőtt gyümölcsöt hoz. A kiváló minőségű olaj a gyümölcs pörkölt és zúzott magjából kerül körülményesen kinyerésre, valamint helyreállító és regeneráló hatásáról ismert.

Alkalmazás

Vigye fel a megtisztított, törölközőszáraz hajra, hagyja hatni 5-10 percig, majd alaposan öblítse le.

Márkák: Shu Uemura
Terméktípus: Hajkúra/hajmaszk
Kinek?: Unisex
Hatás: felépítő, javító, regeneráló, ápoló, erősítő
Hajtípus: Sérült haj
Alkalmazási terület: Haj
Összetevők (INCI)
  • aqua (water)
  • cetearyl alcohol
  • behentrimonium chloride
  • glycerin
  • cetyl esters
  • amodimethicone
  • isopropyl alcohol
  • argania spinosa (argan) kernel oil
  • methylparaben
  • sodium pca
  • trideceth-6
  • tocopheryl acetate
  • chlorhexidine dihydrochloride
  • cetrimonium chloride
  • benzyl salicylate
  • alcohol
  • citronellol
  • benzyl alcohol
  • coumarin
  • 2-oleamido-1,3-octadecanediol
  • 2-oleamido-1,3-octadecanediol
  • safflower glucoside
  • gentiana lutea root extract
  • phenoxyethanol
  • tocopherol
  • bht
  • sodium hydroxide
  • parfum (fragrance)
Megjegyzés az összetevőkkel és alkalmazással kapcsolatban
Kiegészítők

Vásárlói vélemények

Vásárlói vélemény magyar nyelven: Shu Uemura Silk Bloom Restorative maszk

Hasonló termékek:

  • placeholder
  • placeholder
  • placeholder
  • placeholder

Vásárlók, akik "Silk Bloom Restorative maszk" terméket rendeltek, a következőket vásárolták meg még:

  • placeholder
  • placeholder
  • placeholder
  • placeholder